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SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜?？稍跇O低溫度下（ 100ºC）沉積高質量SiO2, S...

QAM 系列鍍膜設備是一種用于研究開發(fā)的精密濺射鍍膜機，可用于各種基板上的包括磁性材料薄膜、超晶格薄膜的濺射鍍膜制程

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版；Picosun 300mm生產線上的產品是300mm以下晶圓的自動化、高產量的工業(yè)ALD加工設備。

PICOSUN 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Pro；PICOSUN R-200 Advanced ALD系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS...

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200高級版；系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件...

PICOSUN®R-200標準ALD系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件，珠寶，...

SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術，采用良好的旋轉補償器，結合光纖專li技術將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣...

SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E 基于橢圓偏振測試技術，采用良好的旋轉補償器，結合光纖技術將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜...

離子注入機由離子源、質量分析器、加速器、四級透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據實際需要省去次要部位。離子源是離子注入機的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子...

丹頓真空的Discovery系列在世界許多著名的研究機構得到廣泛的應用，是業(yè)內*的靈活、可靠的磁控濺射系統(tǒng)。從15年前開發(fā)以來，該系統(tǒng)已經銷售超過100臺，在國...

目前，丹頓真空已為客戶設計制造了總數超過5千臺的各種規(guī)格的電阻/電子束蒸發(fā)、磁控濺射、離子束濺射/刻蝕和等離子體化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)，產品廣泛應用于科研開發(fā)、小...

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜?？稍跇O低溫度下（ 100ºC）沉積高質量SiO2, S...